產品中心
Product Center
熱門搜索:
Element美國EDAX能譜儀
EP6美國 Cascade Microtech EP6探針臺
TEM氮化硅薄膜窗口
NTEGRAPrima俄羅斯產全功能掃描探針原子力顯微鏡
Zeta-20三維光學輪廓儀
主動隔振臺ARISTT
石英/硅/聚合物模板高分辨率納米壓印模板(Mold for nanoimprint lithography)
P170全自動晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
iNano高精度臺式納米壓痕儀
PLD/Laser-MBE脈沖激光沉積/分子束外延聯用系統
P7晶圓探針式輪廓儀/臺階儀
納米團簇束流沉積系統
Lumina光學表面缺陷分析儀
Profilm 3D經濟三維光學輪廓儀 可測樣
Solver P47俄羅斯產高性價比掃描探針顯微鏡原子力
納米壓印膠

產品簡介
緊湊型臺式光刻系統重新定義無掩模光刻技術LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺式光刻系統利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實現無掩模圖案化。設計簡潔,精準它將微加工技術從潔凈室和任何研究或教育空間中帶出來。
| 品牌 | 其他品牌 |
|---|
緊湊型臺式光刻系統
重新定義無掩模光刻技術
LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺式光刻系統利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實現無掩模圖案化。設計簡潔,精準它將微加工技術從潔凈室和任何研究或教育空間中帶出來。
克服傳統掩模對準機的局限性:
-傳統的掩模對準器長期以來一直對半導體研究造成障礙
-設備笨重且昂貴
-操作程序復雜且僵化
-潔凈室基礎設施要求
-掩模制造的交付周期
-每個掩膜的成本很高 通常要幾百到幾千美元
可安裝顯微鏡的模塊:
可與傳統品牌顯微鏡配合使用,無需額外占用空間。
通過PLANCK軟件進行即時投影:
上傳圖片并在幾秒鐘內曝光。
無潔凈室操作:
直接在潔凈工作臺內使用。
無掩模工作流程:
消除光掩模制造時間和成本。
定制圖像圖案:
支持PNG、JPG和灰度模式,實現靈活的實驗設計。

、




緊湊型臺式光刻系統


