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      • 202312-12
        該如何使用高精度輪廓儀看看本篇你就知道了

        高精度輪廓儀是一種用于測量物體輪廓的精密儀器。它可以用于工業生產、制造、質量控制等領域,能夠提供對物體輪廓的準確測量和分析數據。下面將介紹高精度輪廓儀的使用方法。首先,打開高精度輪廓儀的電源并等待儀器啟動。儀器會進行自動校準和參數設置,確保測量結果的準確性。接下來,將待測物體放置在輪廓儀的測量臺上。要保證物體固定穩定,以免在測量過程中產生誤差。根據需要,可以使用夾具或者其他支撐工具來固定物體。然后,通過調整儀器的參數和設置,選擇合適的測量模式。高精度輪廓儀通常具有多種測量模式...

      • 202311-10
        高精度輪廓儀是一種用于測量和繪制物體輪廓的裝置

        高精度輪廓儀是一種用于測量和繪制物體輪廓的裝置,它能夠以高精度和高速度獲取物體的外形信息。這種儀器常用于工程設計、制造、品質控制和科學研究等領域。高精度輪廓儀通常由一個激光測距儀和一個移動平臺組成。激光測距儀通過發射激光束并接收返回的激光信號,可以精確地測量物體的距離。移動平臺則用于控制激光測距儀在水平和垂直方向上的移動,從而實現對物體輪廓的全面掃描。在測量過程中,高精度輪廓儀會將物體的輪廓點云數據采集下來,并通過特定的算法進行處理和分析。這些算法可以將點云數據轉化為三維模型...

      • 202310-16
        圓探針式臺階儀是一種用于測量臺階高度和曲率的儀器

        圓探針式臺階儀是一種用于測量臺階高度和曲率的儀器。它的原理是利用一個圓形探針在臺階表面上運動,并通過測量探針的垂直位移來計算出臺階的高度和曲率。圓探針式臺階儀在土木工程、建筑設計和地形測量等領域有著廣泛的應用。圓探針式臺階儀由一個探針和一個傳感器組成。探針是一個圓形的剛性圓柱體,其底部連接到一個測量裝置上。傳感器安裝在儀器的固定部分上,用來測量探針的垂直位移。在實際測量中,儀器被放置在需要測量的臺階表面上。通過手柄控制探針的運動,使其在臺階表面上移動。同時,傳感器會測量探針的...

      • 20239-7
        晶圓探針式輪廓儀作為半導體工業中重要的測試和測量工具

        晶圓探針式輪廓儀(WaferProber)是一種用于測試和測量半導體晶圓上器件輪廓和尺寸的儀器。該儀器通常由機械平臺、探針卡盤、探測控制系統等部分組成。晶圓探針式輪廓儀的工作原理是通過將晶圓置于機械平臺上,利用探針卡盤上的探針觸點對晶圓進行探測和測量。探針觸點通過機械運動精確地接觸晶圓表面,并測量其表面的高度和形狀變化。通過控制探針卡盤的移動,該儀器可以對晶圓表面的多個點進行連續的測量,從而還原出器件在晶圓上的輪廓和尺寸信息。晶圓探針式輪廓儀的主要應用領域是半導體工業中的研發...

      • 20238-7
        了解一下臺式納米壓痕儀的特點有哪些吧

        臺式納米壓痕儀是一種先進的實驗儀器,用于測量材料的力學性能,特別是材料的硬度和彈性模量。它具有以下幾個特點:1.精準測量:臺式納米壓痕儀采用高精度的傳感器和控制系統,可以實現對材料力學性能的精確測量。它能夠測量材料的硬度、壓痕深度和壓痕尺寸等參數,提供準確的數據分析。2.高效操作:臺式納米壓痕儀操作簡單,用戶可以通過觸摸屏或計算機界面進行參數設置和實驗控制。儀器配備了自動探針識別和調節系統,可以快速準確地選擇合適的探針和設置合適的實驗條件,提高工作效率。3.多功能性:除了常規...

      • 20237-5
        臺式納米壓痕儀是一種先進的材料表面力學性能測試儀器

        臺式納米壓痕儀是一種先進的材料表面力學性能測試儀器。它采用納米級壓痕技術,能夠在微小的尺度上對材料的硬度、彈性模量和塑性變形進行精確測量。這種儀器在材料科學、納米技術和工程領域具有廣泛的應用前景。該儀器由壓頭、壓頭支架、移動平臺和傳感器組成。壓頭是用于加載樣品的部件,其帶有一顆微小的硬度鉆石,可以在納米級尺度下進行壓痕測試。壓頭支架用于支撐和固定壓頭,保證測試的穩定和準確性。移動平臺是控制壓頭的升降和水平移動的部件,通過精確的運動控制,能夠對樣品進行準確的定位和測試。傳感器則...

      • 20236-6
        關于離子束沉積系統的使用方法看完本篇你就知道了

        離子束沉積系統(IonBeamDepositionSystem)是利用離子束轟擊固體表面,通過化學反應或物理作用使材料原子聚積在基片表面形成薄膜的一種薄膜制備技術。以下是離子束沉積系統的使用方法:1.準備工作首先需要準備好需要沉積的基片和目標材料。將基片清洗干凈,并去除表面的污垢和雜質。目標材料則需要切割成合適大小并進行打磨處理。2.裝載基片和目標材料將準備好的基片放入樣品架中,并通過真空泵將其置于所需的低壓環境中。然后將目標材料放置于離子源旁邊的樣品架上。3.啟動系統啟動系...

      • 20235-5
        離子束沉積是一種常用的薄膜制備技術

        離子束沉積(IonBeamDeposition,IBD)是一種常用的薄膜制備技術,它利用離子束轟擊靶材表面,從而使其原子或分子在表面沉積成薄膜。離子束沉積具有高度可控性、良好的均勻性和較低的表面粗糙度等優點,因此在微電子學、光學和材料科學等領域得到廣泛應用。離子束沉積的基本原理是利用離子束能量將靶材表面的原子或分子打碎,并沉積在基底上形成薄膜。離子束沉積有兩種方式,即單源離子束沉積和多源離子束沉積。單源離子束沉積是指利用單個離子源產生離子束,直接轟擊靶材表面進行沉積;而多源離...

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